シラノール基の本質を理解する ― 表面化学から分散・ゲル化・劣化まで ―
シリカ材料の性能を決定づける“見えない主役”——それがシラノール基（Si–OH）です。
分散安定性、ゲル化挙動、表面改質、吸湿劣化、電荷反転、界面反応。
これらの現象はすべて、シラノール基の密度・酸解離特性（多段pKa）・配置状態に起因します。
本セミナーでは、経験則や断片知識ではなく、表面化学・コロイド科学の理論に基づき体系的に整理します。
■ このような方におすすめ
- 合成シリカ・コロイダルシリカの開発担当者
- 分散トラブルやゲル化不良に悩んでいる技術者
- ζ電位データの正しい解釈を知りたい研究者
- シランカップリング剤の反応機構を再整理したい方
- 表面改質や機能性付与の設計指針を明確にしたい方
■ セミナーで得られる知見
✔ シラノール基の種類（孤立型・水素結合型・ジェミナル型）
✔ 多段pKaモデルと等電点（IEP）の本質
✔ 粒子径・OH密度・ζ電位の相関
✔ DLVO理論 vs 非DLVO相互作用
✔ 電荷反転とゲル化メカニズム
✔ 吸湿による表面劣化の機構
✔ シラン加水分解・縮合反応の熱力学的視点
詳細につきましては、下記をご確認ください。
また、講師紹介割引もご用意しております。
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皆さまのご参加を心よりお待ちしております。
日 時 ：【Live配信】２０２６年２月27日（金） １2：３０～１６：３０
会 場 ： Zoomを利用した Live配信
セミナーの接続確認・受講手順は「こちら」をご確認下さい。
１．シラノール基の基礎科学
1.1 シラノール基とは何か
1.2 Si-OH の定義、種類（孤立型／準孤立型／ゲミナル型／水素結合型）
1.3 表面密度
1.4 シリカの表面構造モデル
1.5 生成メカニズム
1.6 シロキサン結合（Si-O-Si）の加水分解
1.7 水蒸気処理、湿度依存性
1.8 焼成温度（脱水縮合）と表面シラノール量の関係
1.9 物性と反応性
1.10 酸塩基性との関係
1.11 水素結合ネットワーク
1.12 表面電荷と等電点（pH～2）
２．シラノール基の評価技術
2.1 分光学的手法
2.1.1 FT-IRによる評価
2.1.2 ラマン分光による評価
2.1.3 NMRによる評価
2.2 定量・定性手法
2.2.1 脱水縮合量からのOHの推定 (TGA、DTA等)
2.2.2 水蒸気吸着等温線（表面親水性評価）
2.3 表面分析の実務
2.4 サンプル前処理の注意点
2.5 合成シリカにおける差異
３．シラノール基の表面化学と反応
3.1 シラノール基間反応
3.2 他の官能基との反応
3.2 シランカップリング剤との反応
3.3 加水分解反応
3.4 シランカップリング剤の種類と反応性の違い
3.5 無機・有機種との反応
3.6 金属イオンとの相互作用
3.7 高分子（PVA, PEG）の吸着
3.8 表面電荷と分散・凝集挙動
４．シラノール基の工業的応用例
4.1 シリカ系材料
4.2 合成シリカ
4.3 クロマトグラフィー
4.4 タイヤ
4.5 樹脂充填材
4.6 触媒担体
4.7 電子材料
５．トラブルとその対策
5.1 分散不良・凝集の原因
5.2 局所的なシラノール密度の不均一性
5.3 表面電荷反転
5.4 吸湿による性能劣化
5.5 表面吸着水
5.6 乾燥によるトラブル
5.6 シラン処理の失敗
5.6.1 反応暴走
5.6.2 ゲル化
5.6.3 洗浄不足
６．まとめ
【質疑応答】
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